TMD单层AFM形貌图像中的伪影
最初受到石墨烯工作的启发,二维(2D)材料的广泛分类产生了巨大的兴趣。过渡金属二硫族化合物(TMDs)的单层和异质结构作为人们期待已久的石墨烯二维半导体类似物引起了广泛的研究。由于其直接带隙,TMD单层膜在原子薄电子,光学和光伏应用中非常有前途。
在各种应用中使用TMD单层材料之前,需要对这些材料进行全面的表征。原子力显微镜(AFM)能够通过振幅-相位距离和力-距离曲线表征包括松散结合的污染物和沉积物在内的地形,并具有探测局部电子和磁性质的附加潜力。然而,尖端和样品之间不必要的相互作用导致的力与所研究的性质的力相同。虽然现有的报告包含了一系列的结果,但AFM扫描中的异常并没有得到充分的探索。已知TMD与衬底之间的相互作用力会影响AFM中TMD单层的测量台阶高度(或厚度)。解耦各种力进行分析需要对尖端-样品相互作用有充分的了解。这种与tmd有关的尖端样品力和台阶高度异常的描述尚未报道。
在我们的工作中,我们对WS的AFM地形图像中的伪影进行了详细的分析2包括不同台阶高度(WS)的单层2根据AFM设置显示不同的厚度)和对比度反演(WS)2出现在基材下方)。我们用不同的尖端-样品相互作用和毛细力来描述我们的发现,并发现阶跃高度强烈地依赖于尖端振幅和设定点。此外,我们规定了工具设置以防止对比度反转,并讨论了“正确的”TMD步高测量,因为我们发现我们的结果适用于具有类似润湿特性的其他TMD,如WSe2和摩斯2.
我们的主要发现包括:1)存在时,毛细力主导测量误差;2)基板水层的去除将高度测量的变化从+/-6 nm减小到+/-0.5 nm;3)当衬底水层存在时,通过将AFM设置为高尖端振幅和低设定点来校正对比度反演;我们发现,高尖端振幅降低毛细力;4)当衬底水层不存在时,通过将AFM设置为低振幅和高设定点来纠正对比度反转,这将使操作进入排斥状态;5)考虑到表面污染物和水层的存在,必须通过幅相距离和力距离曲线来表征污染物。
这项工作代表了确定AFM中“正确”高度测量的里程碑,这不能单独从AFM地形图像中确定,而是必须通过诸如力-距离表征等技术来找到。Christian Cupo先生和Kyle Godin先生实验性地领导了这个项目。
Kyle Godin, Christian Cupo, EH Yang
美国斯蒂文斯理工学院
出版
WS2单层膜动态AFM中阶跃高度变化的减小和对比度反演的校正。
Godin K, Cupo C, Yang EH
2017年12月19日
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